光刻机到底有多难制造?可能比原子弹还稀有,全世界仅两国掌握
1、光刻机难造.全球目前能制造出尖端光刻机的国家也就只有荷兰和日本这两个国家。光刻机以光为媒介，刻画微纳于方寸之间，实现各种微米甚至纳米级别的图形加工。
2、上海微电子是全球主要的低端光刻机生产商，占据了全球低端光刻机40%的份额。所以就光刻机本身来说，光刻机并不难造，至少对于中国来说光刻机不难造，难造的是最顶尖的光刻机。
3、光刻机比原子弹还难造的原因是光刻机本身的技术和零件是难以制造的，西方国家对我国实行技术封锁，连零件都不卖给我们。从光刻机的零件来看，最难得是镜头，要求精度相当高。我国目前只能做出纳米级别14的镜头。
4、等到人们真正了解到这个比原子弹还稀有的光刻机，其实也就可以理解，难怪华为苦恼技术了，毕竟全球掌握核心技术的，也只有7家。目前我国半导体技术缺乏，还没有条件生产出高精准的光刻机。
5、二点原因啊，光刻机它毕竟只是一种工具，不像原子弹这种国之重器啊，我们可以不计成本，靠举国之力进行制造。其实呢光刻机咱们国家也不是没有啊，只是说它的水平跟国际水平还是有一定的差。
光刻版哪家好
1、荷兰的光刻机最好。荷兰的光刻机技术最好的公司是在1984年由飞利浦和先进半导体材料国际合资成立的ASML公司，在1995年，ASML通过收购菲利普所持有的股份，成为了完全独立的公司，其总部在荷兰的费尔德霍芬。
2、美国最好。光刻机荷兰、中国、日本、美国、韩国可以做。光刻机就是用光来雕刻的机器，是用来实现光线侵蚀光刻胶的目的。
3、SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备。
4、二，是荷兰阿斯麦生产的光刻设备，一些重要部件来自世界很多国家，比如最重要的光源技术来自美国的一家公司，镜头来自德国等，这里又有美国公司参与控制。
5、荷兰有一家公司ASML，它是全球做光刻机最好的国家，这个根本不用质疑，这家公司拥有强大的科研实力，碾压了美国英国等等貌似芯片软件实力极强的国家。
光刻机是芯片制造的关键,现在在中国有哪些企业能够研制光刻机?
目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔、日本尼康和佳能、中国上海微电子。这里说的光刻机指的是euv%/duv浸润式光刻机。
中国生产光刻机的上市公司如下：智光电气：智光电气主要从事电网安全与控制设备、电机控制与节能设备、供用电控制与自动化设备及电力信息化系统研发、设计、生产和销售。
用光刻机来制造芯片的过程，实际上跟洗照片有点类似，我们把设计好的集成电路图通过紫外光源用掩模板刻到硅晶圆上的过程。
相比之下，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。
ABM ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷SanJose。主要经营光罩对准曝光机（光刻机），单独曝光系统，光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。
成都兴林真空设备有限公司主营业务是光刻机生产加工，光刻机主要用途来自以下场景：（1）光刻机用于大学研发、实验室设备。
中国能生产光刻胶吗
作为PCB感光油墨国内龙头企业之一，容大感光掌握了感光油墨的核心技术，包括树脂合成技术、光刻胶光敏剂合成技术、配方设计及工艺控制技术等。晶瑞电材：我国历史最悠久、供应量最大的光刻胶生产企业之一，i线光刻胶龙头。
国内四大光刻胶龙头企业有南大光电、容大感光、晶瑞电材、彤程新材。
由此可见，中国企业在高端光刻胶制造方面已经掌握了一定的技术实力。那么，国产光刻胶到底能不能雄起呢？笔者认为可以。首先，全球半导体材料市场正在逐步向中国大陆转移。
并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施 扬帆新材 公司是全球光引发剂重要供应商，公司主要的光引发剂品种众多，其中部分产品可以用于光刻胶生产领域。
所以能够确认，国产光刻胶巨头拿下了关键订单，在14nm、7nm范围内都能实现覆盖。南大光电的ArF光刻胶已经通过了客户认证，并进入到生产线，拿到订单的关键阶段。这意味着国产光刻胶正在打破海外垄断，有望实现崛起。
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